光源系統?：可搭載汞燈、氙燈、LED等不同類型光源，提供對應波段的光輻射，是反應的能量來源。

?反應室單元?：采用高透光石英/耐紫外玻璃材質，適配試管、燒瓶、微流控芯片等多種反應容器，保障光高效穿透。

?溫控模塊?：集成水浴或半導體控溫技術，可穩定控制反應溫度，避免光源發熱帶來的熱副反應干擾。

?氣路控制系統?：配備惰性氣體、氧氣等氣體接入接口，可實現厭氧、有氧等不同氣氛條件的反應調控。

?檢測與輔助單元?：集成磁力攪拌、濾光組件，可搭配紫外光譜、pH傳感器等設備，實時監測反應進程。